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塑胶真空电镀 七彩真空电镀原理知识介绍

 通过加热蒸发某种物质使其沉积在固体表面,称为七彩真空电镀。这种方法最早由M.法拉第于1857年提出,现代已成为常用电镀技术之一。蒸发电镀设备结构。
 
蒸发物质如金属、化合物等置于坩埚内或挂在热丝上作为蒸发源,待镀工件,如金属、陶瓷、塑料等基片置于坩埚前方。待系统抽至高真空后,加热坩埚使其中的物质蒸发。蒸发物质的原子或分子以冷凝方式沉积在基片表面。薄膜厚度可由数百埃至数微米。膜厚决定于蒸发源的蒸发速率和时间(或决定于装料量),并与源和基片的距离有关。对于大面积镀膜,常采用旋转基片或多蒸发源的方式以保证膜层厚度的均匀性。从蒸发源到基片的距离应小于蒸气分子在残余气体中的平均自由程,以免蒸气分子与残气分子碰撞引起化学作用。蒸气分子平均动能约为0.1~0.2电子伏。
蒸发源有三种类型。①电阻加热源:用难熔金属如钨、钽制成舟箔或丝状,通以电流,加热在它上方的或置于坩埚中的蒸发物质
 
电阻加热源主要用于蒸发Cd、Pb、Ag、Al、Cu、Cr、Au、Ni等材料;②高频感应加热源:用高频感应电流加热坩埚和蒸发物质;③电子束加热源:适用于蒸发温度较高(不低于2000[618-1])的材料,即用电子束轰击材料使其蒸发。
 
蒸发镀膜与其他真空镀膜方法相比,具有较高的沉积速率,可镀制单质和不易热分解的化合物膜。
 
为沉积高纯单晶膜层,可采用分子束外延方法。生长掺杂的GaAlAs单晶层的分子束外延装置
 
喷射炉中装有分子束源,在超高真空下当它被加热到一定温度时,炉中元素以束状分子流射向基片。基片被加热到一定温度,沉积在基片上的分子可以徙动,按基片晶格次序生长结晶用分子束外延法可获得所需化学计量比的高纯化合物单晶膜,薄膜最慢生长速度可控制在1单层秒。通过控制挡板,可精确地做出所需成分和结构的单晶薄膜。分子束外延法广泛用于制造各种光集成器件和各种超晶格结构薄膜。

 
东莞市金坎五金塑胶有限公司,我公司地处虎门路东面积6000多平方米,120个工人24小时服务,其中各类专业技术人员20多名. 主要设备有:先进的全自动垂直水电镀生产线、立式双门全自动真空镀膜机、自动喷涂线、UV生产线、环保水帘柜、烤箱等 1.经营范围:专业ABS塑胶水电镀及专业真空镀膜、UV真空镀膜、过UV、UV罩光、橡胶油。 2.承接方向:A:对ABS、PP、PC、PE、PS、树脂、陶瓷、ABS+纤、PC+纤等塑胶真空镀膜或表面喷涂处理。 B:对塑胶进行不导电真空电镀‘半透真空电镀、磁控溅射真空电镀。 C:塑胶表面喷塑胶油+过UV或喷橡胶油。 D:对电器进行屏蔽、低压、超低压导电处理。 3.色泽及效果:任意颜色、哑色、枪色、拉丝、镭雕、光面、水滴、半透明等。我厂质量稳定,信誉良好,服务至上,开厂至今本着“优良的品质、领先的技术、微利提取”为原则,热诚服务于各商务往来中。我们追求的目标——“品质是企业的形象,信誉是企业的生命,服务是企业的宗旨!” 诚盼贵公司的关照与合作。金坎将与您携手共进步,共创辉煌。
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